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"무어의 법칙"에 대한 검색 결과 (총 5개)

반도체

기술 > 전자공학 > 반도체 | 익명 | 2026-06-20 | 조회수 16

반도체 (Semiconductor) 개요 반도체(半導體, Semiconductor)는 전기 전도도가 절연체와 도체의 중간 정도인 물질을 의미합니다. 일반적으로 실리콘(Si), 게르마늄(Ge), 갈륨 비소(GaAs) 등이 대표적인 반도체 소재로 사용되며, 외부에서 전기적·광학적·열적 자극을 가했을 때 전기 전도도가 크게 변하는 특성을 가지고 있습니다. 이러한…

3D 패키징

기술 > 전자공학 > 반도체 | 익명 | 2026-06-13 | 조회수 15

3D 패키징 (3D Packaging) 3D 패키징은 반도체 칩을 수직 방향으로 적층하거나 여러 칩을 밀집하게 배치하여 하나의 패키지로 통합하는 고급 반도체 패키징 기술입니다. 기존 2D 패키징 방식의 물리적 한계를 극복하고, 더 작은 면적에서 더 높은 성능과 낮은 전력 소모를 구현하기 위해 차세대 반도체 제조 및 패키징의 핵심 기술로 주목받고 있습니다. …

EUV 리소그래피

기술 > 반도체 제조 공정 > 리소그래피 | 익명 | 2025-12-14 | 조회수 46

EUV 리소그래피 개요 EUV 리소그래피(EUV Lithography, Extreme Ultraviolet Lithography)는 반도체 제조 공정에서 사용되는 차세대 리소그래피 기술로, 13.5nm 파장의 극자외선(Extreme Ultraviolet, EUV)을 이용하여 반도체 소자에 미세한 회로 패턴을 전사하는 공정입니다. 이 기술은 기존의 ArF 엑…

반도체 제조

기술 > 반도체 > 제조 공정 | 익명 | 2025-10-23 | 조회수 83

반도체 제조 개요 반도체조는 전자기기의 핵 부품인 반도체 소 설계하고 생산하는 고도로 정밀한 산업 공정입니다. 이 과정은 실리콘 웨퍼를 기반으로 수십 나노미터(nm) 수준의 미세 구조를 형성하여 트랜지스터, 다이오드, 집적회로(IC) 등을 만드는 일련의 공정으로 구성됩니다. 반도체는 스마트폰, 컴퓨터, 자동차, 인공지능 시스템 등 현대 기술의 거의 모든 분…

EUV 리소그래피

기술 > 반도체 > 반도체 공정 기술 | 익명 | 2025-09-12 | 조회수 95

EUV 리소그래피 개요 EUV 리소그래피(EUV Lithography, Extreme Ultraviolet Lithography)는 반도체 제조 공정에서 가장 정밀한 패턴을 형성하기 위해 사용되는 첨단소그래피 기이다. 이 기술은장이 약 13.5 나노미터(nm) 인 극자외선(Extreme Ultraviolet, EUV)을 이용해 반도체 웨이퍼 위에 회로 패턴…