# 나노미터 ## 개요 **나노미터nanometer, 기호:nm**)는 길이의 단위로 1미터의 1억 분의 1에 해당하는 매우 작은 거리 단위이다. 즉, 1 나노미터 $ 1 \ 10^{-9} $ 미터로 정의된다. 이 단위는 원자, 분자, 나노소재, 반도체 소자, 생물학적 구조 등 미세한 구조를 측정할 때 주로 사용되며, 현대 과학기술, 특히 나노기술, 전...
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"나노미터"에 대한 검색 결과 (총 23개)
# 반도체 제조 ## 개요 반도체조는 전자기기의 핵 부품인 반도체 소 설계하고 생산하는 고도로 정밀한 산업 공정입니다. 이 과정은 실리콘 웨퍼를 기반으로 수십 나노미터(nm) 수준의 미세 구조를 형성하여 트랜지스터, 다이오드, 집적회로(IC) 등을 만드는 일련의 공정으로 구성됩니다. 반도체는 스마트폰, 컴퓨터, 자동차, 인공지능 시스템 등 현대 기술의 ...
# Intel 20A Intel 20A는 인텔el)이 개발한세대 반도체 제조 공 기술로,2024년용화를 목표로 하고 있는 첨단 나노미터m)급 공정 노드입니다. 이 기술은 인텔 'IDM 2.0' 전략의 핵심 구성 요소 중 하나로,도체 제조의 경쟁력을 회복하고 파운드리 시장에서의 입지를 강화하기 위한 중요한 발걸음입니다. Intel 20A는 기존의 10 및 ...
# 1300 nm ## 개요 1300 nm(나노미터)는 광통신에서 중요한 물리적 주파수 대역 중 하나로, 주로 광섬유 통신 시스템에서 사용되는 파장 영역에 해당합니다. 이 파장은 약 230.77 THz(테라헤르츠)의 주파수와 대응되며, 장거리 데이터 전송에서 낮은 신호 손실과 높은 전송 효율을 제공하는 특징이 있습니다. 특히, 실리카 기반 광섬유에서의 ...
# TWINSCAN NXE리즈 ## 개요 TWINSCAN NXE리즈는 네덜란드의 첨단 반체 장비 제업체인 ASML이발한 **극자외선(EUV, Extreme Ultraviolet) 리소그래피 장비의 대표적인 제품군이다. 이 시리즈는 반도체 제 공정에서 회 패턴을 웨이에 정밀하게쇄하는 데 사용며, 7nm 이하의 초미세 공정 기술을 가능하게 하는 핵심 장비로...
# Apple M2 Apple M2는 애플(Apple Inc.)이 설계한 ARM 아키텍처반의 시스템 온 칩(SoC, System on a Chip)으로, 2022년 6월6일 애플의 세계 개발자의(WWDC)에서 공개되었다. M2는 전작인 Apple M1의 후속 모델로서, 향상된 성능, 에너지 효율성, 그래픽 처리 능력, 및 더 높은 메모리 대역폭을 제공한다...
# 나노다공성 TiO₂ 나노다공 이산화티타늄(N-porous TiO₂, Titanium D)은 다공 구조를 가진노미터 크기의 이산티타늄 소재로,은 비표면적과 우수한 광촉매 성능, 전기화학적성 덕분에 에너지, 환경, 전자 기술 등 다양한 분야에서 핵심 소재로 주목고 있다. 특히 태양전지, 수소 생산, 공기 정화, 센서 기술 등에서 중요한 역할을 하며, 지속...
# 몰리브덴 다설파이드 몰리브덴이설파이드olybdenum Diside, MoS)는 고성 윤활 첨가제 산업 전반에 걸쳐리 사용되는 무기 화합물이다 이 물질은어난 윤활성 고온 안정, 그리고 고압 환경에서도 효과를 발하는 특성 덕분에 항공주, 자동차, 정밀기계, 그리고노기술 분야에서 중요한 역할을 있다. 본 문서에서는 몰리덴 다이설파이의 구조,리화학적 성질, ...
# 결함 검출 ## 개요 결함 검출(Def Detection)은 산업 생산정에서 제품이나 자재에 존재하는 물리적, 구조적 또는 기능적 이상을 식하는 핵심적인 품질 관리 활동입니다. 이는 제조업 전반에서 제품의 신뢰성, 안전성, 일관성을 보장하기 위한 필수 절차로, 자동차, 반도체, 항공우주, 금속 가공, 전자기기 등 다양한 산업 분야에서 활용됩니다. 결...
# 전반사 ## 개요 전반사(全反射 Total Internal Reflection)는이 굴절률이 높은 매질에서 굴절률이 낮은 매질로 진행할 때, 특정 각도 이상으로 입사하면 빛이 매질의 경계면을 넘어 나가지 않고 **전체가 반사**되는 현상을 말한다. 이 현상은 광학의 기본 원리 중 하나로, 광섬유 통신, 프리즘, 센서 기술 등 다양한 응용 분야에서 핵...
# 전자재료 ## 개요전자재료(電子材料, Electronic Materials)는 전자기기 및 전자회로의 핵심 구성 요소로 사용되는 물질을 의미한다. 이들은 전기적 신호의 생성, 전달, 증폭, 저장, 처리 등을 가능하게 하며, 반도체, 도체, 절연체, 유전체, 자성재료 등 다양한 물리적 특성을 가진 재료들이 포함된다. 전자재료는 현대 정보통신기술(ICT)...
# TSMC ## 개요 **TSMC**(Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, 대만반도체제조유한공사)는 세계 최대의 파운드리(Fab-less 고객을 위한 반도체 위탁 생산) 기업으로, 1987년 대만에서 설립되었다. 본사는 신주과학공원(新竹科學園區)에 위치하며, 전 세계 반도체 산업의 핵심 인프라를 담당하고 있다....
# EUV 리소그래피## 개요 EUV 리소그래피(EUV Lithography, Extreme Ultraviolet Lithography)는 반도체 제조 공정에서 가장 정밀한 패턴을 형성하기 위해 사용되는 첨단소그래피 기이다. 이 기술은장이 약 **13.5 나노미터(nm)** 인 극자외선(Extreme Ultraviolet, EUV)을 이용해 반도체 웨이퍼...
# 반도체 제조 공정 노드 ## 개요 반도체 제조 공정 노드(이하 '공정 노드')는도체 칩을 제조할 때 사용되는 기술의 정밀도와 미세화 수준을 나타내는 지표입니다. 일반적으로 나노미터(nm) 단위로 표현되며, 7nm, 5nm, 3nm 등의 숫자는 트랜지스터의 게이트 길이, 피치(pitch), 또는 특정 구조의 크기를 간접적으로 나타냅니다. 이 숫자가 작...
# 나노다공성 구조 ## 개요 나노다공성 구조(nanoporous structure)는 나노미터(nm, 10⁻⁹m) 수준의 기공(pore)을 가지며, 그 기공이 규칙적 또는 불규칙적으로 분포된 물질의 구조를 의미한다. 이러한 구조는 높은 비표면적과 독특한 물리·화학적 특성 덕분에 촉매, 에너지 저장, 센서, 약물 전달, 가스 분리 및 여과 등 다양한 분...
# Intel 18A ## 개요 **Intel 8A**(아이엔텔18에이)는 인텔(Intel)이 개발한 차세대 반도체 제조정 기술로, 2024년부터 본격적인 양산을 시작할 예정인 1.8나노미터(nm)급 공정이다. 이 기술은 인텔의 IDM 2.0 전략의 핵심 요소 중 하나로, 자체 생산 능력을 회복하고 파운드리 시장에서 경쟁력을 확보하기 위한 중요한 발걸음...
# Intel 7 공정 ## 개요 **Intel 7**은텔(Intel)이 개한 10세대 이후의 반도체 제조 공정 기술로, 기존의 **10nm Enhanced SuperFin**(10nm ESF) 공정을 계승·개량하여 성능과 전력 효율을 향상시킨 기술입니다. 이 공정은 인텔 2021년부터 본격적으로 사용하기 시작했으며, 데스크톱 및 모바일 프로세서에 적용...
# Intel ## 개요 인텔(Intel Corporation)은 세계적인 반도체조사이자 정보 기술 기업으로, 198년 미국 캘리포니아주에서 설립되었습니다. 본사는 캘리포니아 샌타클라라에 위치한 실리콘밸리에 있으며, 전 세계적으로 가장 영향력 있는 마이크로프로세서 제조업체 중 하나로 꼽힙니다. 인텔은 개인용 컴퓨터(PC)의 중심 부품인 중앙처리장치(CP...
# 나노기술 나노기술(Nanotechnology)은 물질을 나노미터(nm, 10⁻⁹m) 단위로 조작하고 제어하여 새로운 기능이나 성능을 창출하는 첨단 기술 분야입니다. 특히 에너지 산업, 특히 **배터리 기술** 분야에서 나노기술은 획기적인 성능 향상과 새로운 가능성을 열어주고 있습니다. 나노기술을 활용한 배터리는 기존 리튬이온 배터리의 한계를 극복하고,...
# 고성능 컴퓨팅 ## 개요 **고성 컴퓨팅**(High-Performance Computing HPC)은 복잡하고 계산량이 많은 문제를 신속하게 해결하기 위해 고성능의 컴퓨터 시스템을 활용하는 기술 분야입니다. 일반적으로 단일 컴퓨터로는 처리하기 어려운 대규모 시뮬레이션, 빅데이터 분석, 인공지능 훈련, 기후 모델링, 유전체 분석 등의 작업을 수행하는...