# 깊이 센서 ## 개요 **깊이 센서**(Depth Sensor)는 물체와의 거리 정보를 측정하여 3차원 공간의 깊이를 인식하는 영상 센서의 일종이다. 일반적인 카메라가 2차원의 색상 정보(RGB)만을 수집하는 반면, 깊이 센서는 각 픽셀에 대해 거리 값을 추가로 제공함으로써 3D 공간 정보를 실시간으로 획득할 수 있다. 이 기술은 모바일 기기, 로봇...
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"반사율"에 대한 검색 결과 (총 13개)
# 차광 설계 ## 개요 **차광 설계**(遮光設計, Light Shielding Design)는 특정 공간이나 장비에 불필요한 빛이 유입되는 것을 방지하기 위해 광학적, 물리적 수단을 활용하여 빛의 경로를 차단하거나 제어하는 기술적 설계 과정을 의미한다. 이는 광학 기기, 건축, 전자기기, 천문 관측소, 디스플레이 장치 등 다양한 분야에서 핵심적인 역...
# EUV 리소그래피 ## 개요 EUV 리소그래피(EUV Lithography, Extreme Ultraviolet Lithography)는 반도체 제조 공정에서 사용되는 차세대 리소그래피 기술로, 13.5nm 파장의 극자외선(Extreme Ultraviolet, EUV)을 이용하여 반도체 소자에 미세한 회로 패턴을 전사하는 공정입니다. 이 기술은 기존...
# 거리 측정 오차 거리 측정 오차는 다양한 센서 기술을 활용하여 물체 간의 거리를 측정할 때 발생할 수 있는 **측정값과 실제값 사이의 차이**를 의미합니다. 이 오차는 정밀 측정이 요구되는 산업, 자율주행 시스템, 로봇 공학, 드론 내비게이션, 의료 기기 등에서 중요한 고려 요소로 작용합니다. 오차의 원인과 특성을 이해함으로써 센서의 신뢰성과 성능을 ...
# 래스터 데이터 ## 개요 래스터 데이터(Raster Data)는 지정보시스템(GIS, Geographic Information)에서 공간 정보를 표현하는 두 가지 주요 데이터 형식 중 하나로, **격자 형태의 셀**(cell) 또는 **픽셀**(pixel)로 구성된 이미지 기반의 데이터 구조입니다. 각 셀은 특정 위치에 대한 값을 가지며, 이 값은 ...
# TWINSCAN NXE리즈 ## 개요 TWINSCAN NXE리즈는 네덜란드의 첨단 반체 장비 제업체인 ASML이발한 **극자외선(EUV, Extreme Ultraviolet) 리소그래피 장비의 대표적인 제품군이다. 이 시리즈는 반도체 제 공정에서 회 패턴을 웨이에 정밀하게쇄하는 데 사용며, 7nm 이하의 초미세 공정 기술을 가능하게 하는 핵심 장비로...
# 기후 모델링 ## 개요 기후 모델링(Climate Modeling)은 지구의 기후 시스템을 수학적이고 물리적인 방식으로 시뮬레이션하여 과거, 현재, 미래의 기후 변화를 예측하고 분석하는 과학적 접근 방식이다. 이는 대기, 해양, 육지, 빙하, 생물권 등 다양한 지구 시스템 요소 간의 상호작용을 수치적으로 표현하며, 기후 변화의 원인과 영향을 이해하는...
# MSR: 다중 스케일 Retinex 알고리즘## 개요 **MSRMulti-Scale Retinex)은 디털 영상 처리 분야에서 널리 사용되는 색 보정 및 명암 대비 향상 기법 중 하나로, 인간의각 시스템이 다양한 조명 조건 하에서도 색상과 밝기를 일관되게 인식하는 능력에 착안하여 개발된 **Retin 이론**을 기반으로 합니다. MSR은 특히 저조도,...
# 조도 보정 ## 개요 **조도 보정Illumination Correction)은지털 이미지 분야에서 이미지의 조명 불균형을 해소하여 시각적 품질을 향상시키고 후속 분석의 정확도를 높이기 위한 핵심 기술입니다. 실제 촬영 환경에서 조명 조건은 다양하며, 카메라 위치, 광원의 방향, 반사율 차이 등으로 인해 이미지 전체에 균일하지 않은 밝기 분포가 발생...
# Time-of-Flight ## 개요 **Time-of-FlightToF, 비행시간)는체와 센서 사이의 거리를 측정하기 위한 기술로, 빛이나 음파와 같은 신호가 발사되어 물체에 반된 후 수신 때까지의 **비행 시간**(Time of Flight)을 측정함으로써 거리를 계산하는 원리를 사용합니다. 특히 **컴퓨터비전**(Computer Vision) ...
# 렌더링 ## 개요 렌더링(Rendering)은 컴퓨터그래픽스에서 3차원(D) 모델 2차원(D) 장면 시각적으로 표현 가능한 이미지 또는 영상으로 변환하는 과정을 의미합니다. 이는 디지털 콘텐츠 제작, 영화 특수효과(VFX),임 개발, 건축 시각화, 산업 디자인 등 다양한 분야에서 핵심적인 기술로 활용됩니다. 렌더링은 단순한 그림 생성을 넘어 조명, ...
# 전반사 ## 개요 전반사(全反射 Total Internal Reflection)는이 굴절률이 높은 매질에서 굴절률이 낮은 매질로 진행할 때, 특정 각도 이상으로 입사하면 빛이 매질의 경계면을 넘어 나가지 않고 **전체가 반사**되는 현상을 말한다. 이 현상은 광학의 기본 원리 중 하나로, 광섬유 통신, 프리즘, 센서 기술 등 다양한 응용 분야에서 핵...
# EUV 리소그래피## 개요 EUV 리소그래피(EUV Lithography, Extreme Ultraviolet Lithography)는 반도체 제조 공정에서 가장 정밀한 패턴을 형성하기 위해 사용되는 첨단소그래피 기이다. 이 기술은장이 약 **13.5 나노미터(nm)** 인 극자외선(Extreme Ultraviolet, EUV)을 이용해 반도체 웨이퍼...