검색 결과

"나노미터(nm)"에 대한 검색 결과 (총 12개)

Intel 7 공정

기술 > 반도체 > 반도체 공정 기술 | 익명 | 2026-07-25 | 조회수 3

Intel 7 공정 개요 Intel 7은텔(Intel)이 개한 10세대 이후의 반도체 제조 공정 기술로, 기존의 10nm Enhanced SuperFin(10nm ESF) 공정을 계승·개량하여 성능과 전력 효율을 향상시킨 기술입니다. 이 공정은 인텔 2021년부터 본격적으로 사용하기 시작했으며, 데스크톱 및 모바일 프로세서에 적용되어 인텔의 공정 기술 경쟁…

NIST

기관 > 표준 기관 > 측정 기준 | 익명 | 2026-07-03 | 조회수 66

NIST (미국 국립표준기술연구소) 1. 개요 NIST(National Institute of Standards and Technology, 미국 국립표준기술연구소)는 미국 상무부(Department of Commerce) 산하의 비규제 정부 기관으로, 측정 표준의 개발 및 보급, 그리고 산업 경쟁력 강화를 위한 기술 표준 설정을 주 목적으로 하는 세계 최…

레이저 간섭계

기술 > 측정 기술 > 정밀 측정 | 익명 | 2026-06-20 | 조회수 14

레이저 간섭계 (Laser Interferometer) 개요 레이저 간섭계(Laser Interferometer)는 레이저 광원의 간섭 현상을 이용하여 미세한 길이 변화, 굴절률 변화, 진동, 표면 형상 등을 극도로 정밀하게 측정하는 계측 장비입니다. '간섭계(Interferometer)'라는 용어는 빛의 파동성 중 하나인 간섭(Interference) 원…

나노미터

기술 > 측정 기술 > 길이 단위 | 익명 | 2026-06-20 | 조회수 14

나노미터 (Nanometer) 나노미터(기호: nm)는 길이의 SI 단위인 미터(m)의 십억 분의 일( m)에 해당하는 길이 단위입니다. '나노(nano)'는 그리스어 '난os(nanos)'에서 유래한 접두사로, '난쟁이' 또는 '작은'이라는 의미를 지니며, 국제단위계(SI)에서 를 나타냅니다. 나노미터는 원자나 분자, 바이러스 등 미시 세계의 크기를 측정…

피코미터

과학 > 측정 기술 > 길이 단위 | 익명 | 2025-12-17 | 조회수 60

피코미터 개요 피코미터(picometer, 기호: pm)는 길이의 국제단위계(SI) 단위 중 하나로, 1미터의 1조 분의 1에 해당하는 매우 작은 길이를 나타냅니다. 즉, 1 피코미터는 10⁻¹² 미터(0.000000000001 m)입니다. 이 단위는 원자 및 아원자 수준의 구조를 측정하는 데 주로 사용되며, 원자 반지름, 화학 결합 길이, 핵 구조 등 극…

마이크로 전기기계 시스템

기술 > 재료공학 > MEMS 기술 | 익명 | 2025-12-08 | 조회수 61

마이크로 전기기계 시스템 개요 마이크로 전기기계 시스템(Micro-Electro-Mechanical Systems, 이하 MEMS)는 마이크로미터(μm) 수준의 크기를 가진 기계적 구조와 전자 회로를 반도체 제조 기술을 활용해 통합한 소형 시스템입니다. MEMS는 기계적 요소, 센서, 액추에이터(구동기), 전자 제어 회로 등을 하나의 칩 위에 집적하여, 물…

반도체 제조

기술 > 반도체 > 제조 공정 | 익명 | 2025-10-23 | 조회수 80

반도체 제조 개요 반도체조는 전자기기의 핵 부품인 반도체 소 설계하고 생산하는 고도로 정밀한 산업 공정입니다. 이 과정은 실리콘 웨퍼를 기반으로 수십 나노미터(nm) 수준의 미세 구조를 형성하여 트랜지스터, 다이오드, 집적회로(IC) 등을 만드는 일련의 공정으로 구성됩니다. 반도체는 스마트폰, 컴퓨터, 자동차, 인공지능 시스템 등 현대 기술의 거의 모든 분…

TSMC

기술 > 반도체 > 반도체 제조사 | 익명 | 2025-09-13 | 조회수 99

TSMC 개요 TSMC(Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, 대만반도체제조유한공사)는 세계 최대의 파운드리(Fab-less 고객을 위한 반도체 위탁 생산) 기업으로, 1987년 대만에서 설립되었다. 본사는 신주과학공원(新竹科學園區)에 위치하며, 전 세계 반도체 산업의 핵심 인프라를 담당하고 있다. TSMC는 자체 브…

EUV 리소그래피

기술 > 반도체 > 반도체 공정 기술 | 익명 | 2025-09-12 | 조회수 95

EUV 리소그래피 개요 EUV 리소그래피(EUV Lithography, Extreme Ultraviolet Lithography)는 반도체 제조 공정에서 가장 정밀한 패턴을 형성하기 위해 사용되는 첨단소그래피 기이다. 이 기술은장이 약 13.5 나노미터(nm) 인 극자외선(Extreme Ultraviolet, EUV)을 이용해 반도체 웨이퍼 위에 회로 패턴…

반도체 제조 공정 노드

기술 > 반도체 > 반도체 공정 기술 | 익명 | 2025-09-11 | 조회수 81

반도체 제조 공정 노드 개요 반도체 제조 공정 노드(이하 '공정 노드')는도체 칩을 제조할 때 사용되는 기술의 정밀도와 미세화 수준을 나타내는 지표입니다. 일반적으로 나노미터(nm) 단위로 표현되며, 7nm, 5nm, 3nm 등의 숫자는 트랜지스터의 게이트 길이, 피치(pitch), 또는 특정 구조의 크기를 간접적으로 나타냅니다. 이 숫자가 작을수록 더 많…

Intel 18A

기술 > 반도체 제조 공정 > Intel 18A | 익명 | 2025-09-09 | 조회수 72

Intel 18A 개요 Intel 8A(아이엔텔18에이)는 인텔(Intel)이 개발한 차세대 반도체 제조정 기술로, 2024년부터 본격적인 양산을 시작할 예정인 1.8나노미터(nm)급 공정이다. 이 기술은 인텔의 IDM 2.0 전략의 핵심 요소 중 하나로, 자체 생산 능력을 회복하고 파운드리 시장에서 경쟁력을 확보하기 위한 중요한 발걸음이다. "18A"라는…

Intel

기술 > 하드웨어 > 반도체 제조사 | 익명 | 2025-09-06 | 조회수 103

Intel 개요 인텔(Intel Corporation)은 세계적인 반도체조사이자 정보 기술 기업으로, 198년 미국 캘리포니아주에서 설립되었습니다. 본사는 캘리포니아 샌타클라라에 위치한 실리콘밸리에 있으며, 전 세계적으로 가장 영향력 있는 마이크로프로세서 제조업체 중 하나로 꼽힙니다. 인텔은 개인용 컴퓨터(PC)의 중심 부품인 중앙처리장치(CPU) 시장에서…