# IPS (Intrusion Prevention System) **IPS**(Intrusion Prevention System, 침입 방지 시스템)는 네트워크 또는 호스트에서 발생하는 비정상적인 트래픽이나 악성 코드의 침입 시도를 실시간으로 탐지하고, 이를 차단하여 시스템과 네트워크의 보안을 강화하는 보안 장치 또는 소프트웨어 솔루션입니다. IPS는 주...
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"MIRR"에 대한 검색 결과 (총 11개)
# 재건 시간 (Rebuild Time) ## 개요 **재건 시간(Rebuild Time)**은 RAID(Redundant Array of Independent Disks)와 같은 데이터 중복성 기술을 사용하는 스토리지 시스템에서, 고장난 디스크를 교체한 후 손상되거나 손실된 데이터를 복원하는 데 소요되는 총 시간을 의미합니다. 이는 스토리지 유지보수 ...
# YUM ## 개요 YUM(Yellowdog Updater, Modified)은 RPM 기반 리눅스 배포판에서 소프트웨어 패키지를 관리하기 위해 개발된 명령줄 패키지 관리자입니다. 초기에는 Yellow Dog Linux 운영체제용으로 개발되었으나, Red Hat Enterprise Linux(RHEL), CentOS, Fedora 등 주요 서버 및 엔터...
# EUV 리소그래피 ## 개요 EUV 리소그래피(EUV Lithography, Extreme Ultraviolet Lithography)는 반도체 제조 공정에서 사용되는 차세대 리소그래피 기술로, 13.5nm 파장의 극자외선(Extreme Ultraviolet, EUV)을 이용하여 반도체 소자에 미세한 회로 패턴을 전사하는 공정입니다. 이 기술은 기존...
# 포트 미러링 ## 개요 **포트 미링**(Port Mirroring)은트워크 관리 및 모니링을 위해 특정 네트워크 포의 트래픽을 복사하여 다른 포트 전달하는 기술. 이 기술은 주로 네트워크 분석, 보안 감시, 성능 진단 및 트러블슈팅 목적으로 사용됩니다. 포트 미러링을 통해 네트워크 관리자는 실시간으로 데이터 패킷을 캡처하고 분석할 수 있으며, 이를...
# 내부수익률 ## 개요 **내부수익률**( Rate of Return, IRR)은 투자 프로젝트의 수익성을 평가하는 데 사용되는 핵심 재무 지표 중 하나로, 투자로 인해 발생하는 일련의 현금 흐름(cash flows)의 **순현재가치**(NPV, Net Present Value)를 0으로 만드는 할인율을 의미합니다. 즉, IRR은 투자자가 해당 프로젝...
# TWINSCAN NXE리즈 ## 개요 TWINSCAN NXE리즈는 네덜란드의 첨단 반체 장비 제업체인 ASML이발한 **극자외선(EUV, Extreme Ultraviolet) 리소그래피 장비의 대표적인 제품군이다. 이 시리즈는 반도체 제 공정에서 회 패턴을 웨이에 정밀하게쇄하는 데 사용며, 7nm 이하의 초미세 공정 기술을 가능하게 하는 핵심 장비로...
# High Numerical Aperture EUV ## 개요 **Highical Aperture EU**(High-NA EU)는 차세 반도체 리그래피 기술로서 기존의 극자외선(EUV, Extreme Ultr) 리소그래피를전시켜 더욱세한 반도체턴을 형성하기 위한 핵심 기술입니다 반도체 산은 지속적인 미세화(Moore Law)를 위해소그래피의 해상도 향...
# OpenJDK **OpenJDK**(Open Java Development Kit는 자바 프래밍 언어를 위한개 소스 기의 개발 키트로, 자바 플폼의 핵심 구현체 중 하나입니다.바 SE(Standard Edition)의 공식 참조 구현(reference implementation)으로 인정되며, 자바의 오픈소스화 이후 자바 생태계의 중심적인 역할을 하고...
# 병렬 처리 ## 개요 **렬 처리**(Parallel Processing)는 하나의 작업을 여러 개의 하위 작업으로 나누어 동시에 수행함으로써 처리 속도를 향상시키는 컴퓨팅 기법이다. **머신러**(Machine Learning) 분에서 대량의 데이터를 처리하고잡한 모델을 학습시키는 있어 병렬 처리는 필수적인 기술로 자리 잡고 있다. 머신러닝 알고리...
# EUV 리소그래피## 개요 EUV 리소그래피(EUV Lithography, Extreme Ultraviolet Lithography)는 반도체 제조 공정에서 가장 정밀한 패턴을 형성하기 위해 사용되는 첨단소그래피 기이다. 이 기술은장이 약 **13.5 나노미터(nm)** 인 극자외선(Extreme Ultraviolet, EUV)을 이용해 반도체 웨이퍼...