# 포트 미러링 ## 개요 **포트 미링**(Port Mirroring)은트워크 관리 및 모니링을 위해 특정 네트워크 포의 트래픽을 복사하여 다른 포트 전달하는 기술. 이 기술은 주로 네트워크 분석, 보안 감시, 성능 진단 및 트러블슈팅 목적으로 사용됩니다. 포트 미러링을 통해 네트워크 관리자는 실시간으로 데이터 패킷을 캡처하고 분석할 수 있으며, 이를...
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"MIRR"에 대한 검색 결과 (총 7개)
# 내부수익률 ## 개요 **내부수익률**( Rate of Return, IRR)은 투자 프로젝트의 수익성을 평가하는 데 사용되는 핵심 재무 지표 중 하나로, 투자로 인해 발생하는 일련의 현금 흐름(cash flows)의 **순현재가치**(NPV, Net Present Value)를 0으로 만드는 할인율을 의미합니다. 즉, IRR은 투자자가 해당 프로젝...
# TWINSCAN NXE리즈 ## 개요 TWINSCAN NXE리즈는 네덜란드의 첨단 반체 장비 제업체인 ASML이발한 **극자외선(EUV, Extreme Ultraviolet) 리소그래피 장비의 대표적인 제품군이다. 이 시리즈는 반도체 제 공정에서 회 패턴을 웨이에 정밀하게쇄하는 데 사용며, 7nm 이하의 초미세 공정 기술을 가능하게 하는 핵심 장비로...
# High Numerical Aperture EUV ## 개요 **Highical Aperture EU**(High-NA EU)는 차세 반도체 리그래피 기술로서 기존의 극자외선(EUV, Extreme Ultr) 리소그래피를전시켜 더욱세한 반도체턴을 형성하기 위한 핵심 기술입니다 반도체 산은 지속적인 미세화(Moore Law)를 위해소그래피의 해상도 향...
# OpenJDK **OpenJDK**(Open Java Development Kit는 자바 프래밍 언어를 위한개 소스 기의 개발 키트로, 자바 플폼의 핵심 구현체 중 하나입니다.바 SE(Standard Edition)의 공식 참조 구현(reference implementation)으로 인정되며, 자바의 오픈소스화 이후 자바 생태계의 중심적인 역할을 하고...
# 병렬 처리 ## 개요 **렬 처리**(Parallel Processing)는 하나의 작업을 여러 개의 하위 작업으로 나누어 동시에 수행함으로써 처리 속도를 향상시키는 컴퓨팅 기법이다. **머신러**(Machine Learning) 분에서 대량의 데이터를 처리하고잡한 모델을 학습시키는 있어 병렬 처리는 필수적인 기술로 자리 잡고 있다. 머신러닝 알고리...
# EUV 리소그래피## 개요 EUV 리소그래피(EUV Lithography, Extreme Ultraviolet Lithography)는 반도체 제조 공정에서 가장 정밀한 패턴을 형성하기 위해 사용되는 첨단소그래피 기이다. 이 기술은장이 약 **13.5 나노미터(nm)** 인 극자외선(Extreme Ultraviolet, EUV)을 이용해 반도체 웨이퍼...