비틀림 저울 (Torsion Balance) 1. 개요 비틀림 저울(Torsion Balance)은 가느다란 섬유나 와이어의 비틀림 복원력을 이용하여 매우 미세한 힘(Force)이나 토크(Torque, 회전력)를 측정하는 정밀 측정 장치이다. 일반적인 저울이 중력 방향의 수직 하중을 측정하는 것과 달리, 비틀림 저울은 수평 방향의 회전 변위를 측정함으로써 …
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"진공 챔버"에 대한 검색 결과 (총 6개)
누출 테스트 (Leak Testing) 개요 누출 테스트(Leak Testing)란 밀폐되어야 하는 시스템이나 부품의 기밀성(Airtightness/Hermeticity, 외부 물질의 침입이나 내부 물질의 유출을 차단하는 성질)을 검증하여, 의도치 않은 유체(기체 또는 액체)의 이동이 발생하는지 확인하는 품질 검사 공정이다. 산업 현장에서 기밀성 유지는 제…
자유 낙하 (Free Fall) 1. 개요 자유 낙하란 [[공기 저항]]이나 마찰과 같은 외부의 힘을 무시하고, 오직 [[중력]](Gravity, 질량을 가진 물체 사이에 작용하는 인력)의 영향만으로 물체가 아래로 떨어지는 운동을 의미한다. 일상생활에서 사과가 나무에서 떨어지거나, 높은 곳에서 공을 놓았을 때 아래로 가속되며 떨어지는 현상이 이에 해당한다.…
용액 캐스팅 (Solution Casting) 1. 개요 용액 캐스팅(Solution Casting)이란 [[고분자]]나 무기물 등의 용질을 적절한 용매에 녹여 균일한 용액을 만든 후, 이를 기판 위에 붓거나 도포하여 용매를 증발시킴으로써 고체 [[박막]](Thin Film)을 형성하는 제조 공정이다. 이 방법은 고가의 진공 장비가 필요하지 않고 공정이 단…
레이저 간섭계 (Laser Interferometer) 개요 레이저 간섭계(Laser Interferometer)는 레이저 광원의 간섭 현상을 이용하여 미세한 길이 변화, 굴절률 변화, 진동, 표면 형상 등을 극도로 정밀하게 측정하는 계측 장비입니다. '간섭계(Interferometer)'라는 용어는 빛의 파동성 중 하나인 간섭(Interference) 원…
EUV 리소그래피 개요 EUV 리소그래피(EUV Lithography, Extreme Ultraviolet Lithography)는 반도체 제조 공정에서 가장 정밀한 패턴을 형성하기 위해 사용되는 첨단소그래피 기이다. 이 기술은장이 약 13.5 나노미터(nm) 인 극자외선(Extreme Ultraviolet, EUV)을 이용해 반도체 웨이퍼 위에 회로 패턴…