검색 결과

"식각"에 대한 검색 결과 (총 9개)

드릴링 및 패터닝

기술 > 전자제조 > 기판 가공 | 익명 | 2026-07-29 | 조회수 3

드릴링 및 패터닝 (Drilling and Patterning) 드릴링(Drilling)과 패터닝(Patterning)은 반도체, PCB(인쇄회로기판), 디스플레이 및 정밀 기계 가공 산업에서 핵심적인 미세 가공 공정입니다. 드릴링은 재료에 물리적 또는 열적 에너지를 가해 구멍(Via-hole)을 뚫는 공정이며, 패터닝은 설계된 회로 패턴을 기판 위에 형성…

공정 최적화

기술 > 산업자동화 > 프로세스최적화 | 익명 | 2026-07-26 | 조회수 3

공정 최적화 (Process Optimization) 1. 개요 공정 최적화란 제조 또는 서비스 프로세스에서 자원 사용을 최소화하면서 출력물의 품질과 생산성을 최대화하기 위해 공정 변수를 조정하고 개선하는 체계적인 활동을 의미한다. 산업 전반에서 공정 최적화의 일차적인 목적은 생산성 향상과 비용 절감에 있다. 이는 단순히 속도를 높이는 것이 아니라, 에너지…

그래핀

기술 > 나노기술 > 2D재료 | 익명 | 2026-07-26 | 조회수 11

그래핀 (Graphene) 1. 개요 그래핀은 탄소 원자들이 결합을 통해 육각형 벌집 모양의 2차원 평면 구조로 배열된 나노 물질이다. 2004년 안드레 가임(Andre Geim)과 콘스탄틴 노보셀로프(Konstantin Novoselov) 교수가 스카치테이프를 이용해 흑연에서 단일 층의 탄소 시트를 분리해내며 세상에 알려졌으며, 이 공로로 2010년 노벨…

블록 공중합체

재료공학 > 고분자 재료 > 합성 고분자 | 익명 | 2026-07-26 | 조회수 7

블록 공중합체 (Block Copolymer) 블록 공중합체(Block Copolymer)는 서로 다른 화학적 성질을 가진 단량체 블록들이 공유 결합으로 연결되어 하나의 고분자 사슬을 형성한 합성 고분자이다. 1. 개요 블록 공중합체는 화학적으로 상이한 고분자 블록들이 선형으로 연결된 구조를 가진다. 예를 들어, 단량체 로 이루어진 블록과 단량체 로 이루어…

고온 안정성

화학 > 물질 안정성 > 열 분해 | 익명 | 2026-07-14 | 조회수 10

고온 안정성 (High-Temperature Stability) 1. 개요 고온 안정성이란 물질이 외부에서 가해지는 높은 열에너지 환경에서도 화학적 조성의 변화나 물리적 구조의 변형 없이 본래의 성질을 유지할 수 있는 능력을 의미한다. 이는 단순히 녹는점(Melting Point)이 높은 것만을 의미하지 않으며, 열에 의한 화학 결합의 끊어짐([[열분해]]…

스마트폰 디스플레이

기술 > 전자기기 > 디스플레이 | 익명 | 2026-07-12 | 조회수 8

스마트폰 디스플레이 1. 개요 스마트폰 디스플레이는 모바일 기기의 내부 정보를 시각적으로 출력하고 사용자의 입력을 받는 핵심 인터페이스 장치이다. 현대의 스마트폰에서 디스플레이는 단순한 화면 출력을 넘어, 전력 효율, 기기 디자인(폼팩터), 그리고 사용자 경험(UX)의 품질을 결정짓는 가장 중요한 하드웨어 요소로 작용한다. 2. 디스플레이 구동 원리 및 종…

고순도 실리콘

기술 > 재료공학 > 반도체재료 | 익명 | 2026-06-20 | 조회수 12

고순도 실리콘 (High-Purity Silicon) 개요 고순도 실리콘(High-Purity Silicon)은 반도체 산업의 핵심 원료로 사용되는 초고순도의 실리콘 소재입니다. 일반적으로 '전자 등급 실리콘'(Electronic Grade Silicon, EG-Si)이라고도 불리며, 불순물 농도가 극도로 낮은 것이 특징입니다. 현대 전자 산업의 기반이 되…

반도체

기술 > 전자공학 > 반도체 | 익명 | 2026-06-20 | 조회수 16

반도체 (Semiconductor) 개요 반도체(半導體, Semiconductor)는 전기 전도도가 절연체와 도체의 중간 정도인 물질을 의미합니다. 일반적으로 실리콘(Si), 게르마늄(Ge), 갈륨 비소(GaAs) 등이 대표적인 반도체 소재로 사용되며, 외부에서 전기적·광학적·열적 자극을 가했을 때 전기 전도도가 크게 변하는 특성을 가지고 있습니다. 이러한…

EUV 리소그래피

기술 > 반도체 제조 공정 > 리소그래피 | 익명 | 2025-12-14 | 조회수 46

EUV 리소그래피 개요 EUV 리소그래피(EUV Lithography, Extreme Ultraviolet Lithography)는 반도체 제조 공정에서 사용되는 차세대 리소그래피 기술로, 13.5nm 파장의 극자외선(Extreme Ultraviolet, EUV)을 이용하여 반도체 소자에 미세한 회로 패턴을 전사하는 공정입니다. 이 기술은 기존의 ArF 엑…